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マイクロデバイス開発支援センターのご案内

マイクロデバイス開発支援センターでは、
『はじめてMEMSデバイスを開発したい。アイデアはあるが、MEMSデバイスの試作開発にお困りの方』
『高機能性薄膜の作製をしたい。アイデアはあるが、作製装置や作製方法にお困りの方』
・・・
そんな、みなさまへのお手伝いをいたします！

マイクロデバイス開発支援センターのパンフレットはこちらからダウンロード可能です。

マイクロデバイス開発支援センターへのご連絡は，地方独立行政法人大阪産業技術研究所の総合受付までお願いいたします。

・電　話　：　０７２５－５１－２５２５　（総合受付　：　9:00～17:30 ）

装置使用

装置使用

※必要に応じて使用料とは別途、1機器(設備)につき1単位(30分)分の指導料(2,500円)を頂戴致しております。

※令和元年10月1日より、消費税率引き上げに伴い試験料金が改定されています。

機器番号	項目	単位	金額（円）
A3028	イオンビームエッチング装置	半日	8,200
A3031	超音波ボンダー	半日	3,200
A3032	スパッタ装置	半日	13,900
A3034	FET静特性測定器	半日	6,000
A3117	磁気特性測定装置	１日	32,500
A3131	電気抵抗測定システム	１日	12,500
A3132	強磁場発生装置	１日	29,000
A3134	半導体熱処理・拡散・CVD炉	半日	34,200
A3137	高精度フォトリソグラフ	半日	16,000
A3138	ウェハー切断機	1時間	2,100
A3140	マイクロデバイス簡易計測機器一式	1時間	900
A3148	ガウスメータ	１日	1,500
A3152	高密度プラズマＣＶＤ装置	半日	14,200
A3159	小型電気炉	時間	1,600
A8301	ホール効果測定装置	半日	17,900
A8303	多機能真空蒸着装置	半日	9,500
A8304	レーザ描画装置	半日	16,100
A8305	触針式膜厚測定装置	時間	2,000
A9206	半導体デバイス製造用スパッタ装置	半日	17,800
A9220	薄膜用スクラッチ試験機	１時間	4,300
A9239	真空蒸着装置	半日	6,000
A9257	強誘電体特性評価装置	1時間	1,200
A9261	クリーンルーム	半日	2,000
A9293	高速シリコンディープエッチング装置	1時間	10,500
A9334	分光エリプソメーター	1時間	6,800
A9338	低透磁率計	１時間	1,500
A9343	ヘリウムリークディテクター	半日	5,500
A9362	マグネトロンスパッタ装置	1時間	9,900
E1005	多層膜スパッタ装置	半日	14,000
E1006	電子ビーム蒸着装置	半日	6,000
E1007	ＮＬＤエッチング装置	半日	8,200
E1008	両面マスクアライナー	半日	16,000
E1009	電子顕微鏡（SEM）	半日	13,600