地方独立行政法人大阪産業技術研究所 - 当法人は、(地独)大阪府立産業技術総合研究所と(地独)大阪市立工業研究所が統合し、平成29年4月1日にスタートしました。研究開発から製造まで、企業の開発ステージに応じた支援を一気通貫で提供し、大阪産業の更なる飛躍に向け、大阪発のイノベーションを創出します。

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(和泉センター)JKA補助事業 導入機器

以下の機器は、公益財団法人JKA(旧・日本自転車振興会、旧・日本小型自動車振興会)の「公設工業試験研究所等における機械設備拡充補助事業」により導入されました。

※平成28年度以前の補助事業による導入装置は、旧・大阪府立産業技術総合研究所時代に導入されたものです。

補助事業整備機器
2023年度JKA補助事業 金属3Dレーザ積層造形装置
ホール効果測定システム
2021年度JKA補助事業  リモート対応型ショットキー走査電子顕微鏡
材料組織評価装置
2019年度JKA補助事業 マグネトロンスパッタ装置
平成29年度競輪補助事業 分光エリプソメーター
平成28年度競輪補助事業 ナノインデンター
平成27年度競輪補助事業  高速シリコンディープエッチング装置
平成26年度競輪補助事業  大型貨物用振動試験機
平成25年度競輪補助事業  液体クロマトグラフ質量分析システム
平成24年度競輪補助事業  電子線三次元表面形態解析装置
平成23年度競輪補助事業 複合サイクル試験機
高照度キセノン耐候性試験装置
メタルハライドランプ式耐候性試験装置
分光測色計
雷サージ試験システム
平成22年度競輪補助事業 X線応力測定装置
平成21年度競輪補助事業  光電測光式発光分析装置(鋼鉄用、非鉄用)
平成20年度競輪補助事業  顕微ラマン分光光度計
平成19年度競輪補助事業  元素分析付高分解能電界放出型走査電子顕微鏡
平成18年度競輪補助事業  ACサーボ順送プレスシステム 
平成17年度オートレース補助事業  ICP-質量分析システム
平成16年度オートレース補助事業  包装貨物用振動試験機
平成15年度オートレース補助事業  マイクロ波デバイス測定システム
平成14年度オートレース補助事業 三次元形状測定装置

 

金属3Dレーザ積層造形装置

金属3Dレーザ積層造形装置

 

本装置は、粉末床溶融結合方式(Powder Bed Fusion)の金属3Dプリンタです。本装置は1kW級の高出力レーザを搭載しているため、造形速度の高速化により生産性が大幅に向上しており、造形可能な材料の種類も豊富です。また、パルス照射機能により従来装置では難しかった0.1mm程度の薄肉造形が可能です。さらに、内蔵カメラによるモニタリング機能を有しており、製品製造時の課題である造形物の品質管理に用いることができます。

型式

AMCM M290 1kW(EOS-AMCM社製)

方式

PBF(Powder Bed Fusion)
熱源 1 kW Ybファイバーレーザ

ビームスポット径

約0.085 mm

予熱温度

~200 ℃

最大造形サイズ

250 mm×250 mm×H300 mm

使用材料

AlSi10Mg、Ti-6Al-4V、

マルエージング鋼、SUS316L、Cu-Cr粉末 など

※公益財団法人JKA2023年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。

 

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ホール効果測定システム

ホール効果測定システム

 

 本システムは1台で、電気特性の一つである導電性に対する評価に対して、比抵抗測定範囲が16桁以上(5×10-8 Ω・cm~1×108 Ω・cm:試料の膜厚が1μmの場合)と非常に幅広く、かつ測定温度も10 K~ 1073 K (-263 ℃ ~ 800 ℃)まで任意に制御可能です。さらに、従来の測定システムと比較してより高感度な測定を簡便に行えるため、効率的に利用することができます。

型式

ResiTest8404-EMPAC(株式会社東陽テクニカ)

抵抗測定範囲

5×10-4 Ω ~ 1×1012 Ω
測定温度範囲(低温)  10 K ~ 300 K

測定温度範囲(高温:大気)

室温 ~ 873 K

測定温度範囲(高温:真空)

室温 ~ 1073 K

比抵抗測定範囲 注)

5×10-8 Ω・cm ~ 1×108 Ω・cm

キャリア濃度測定範囲 注)

8×102 cm-3 ~ 8×1023 cm-3

ホール移動度測定範囲 注)

10-3 cm2・(V・s)-1 ~ 106 cm2・(V・s)-1

 

注)試料の膜厚が1μmの場合

※公益財団法人JKA2023年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。

 

リモート対応型ショットキー走査電子顕微鏡
リモート対応型ショットキー走査電子顕微鏡
本装置は、像観察や組織解析の分解能や操作性に優れた電子顕微鏡です。本装置は、大電流を安定して照射することができるため分析器等の装備にも適し、それによりサブミクロンオーダーでの高度な材料解析が可能です。また、大型の試料や非導電性試料もそのまま観察することができます。さらに、本装置はリモート機能を有しており、遠隔地から容易に操作することが可能で、会社に居ながらにして、効率的に利用することができます。
型式 SU5000(株式会社日立ハイテク製)
電子銃 ショットキーエミッション銃
加速電圧 0.5~30 kV
最大電流 200 nA
分解能 1.2 nm(30 kV)
検出器 二次電子検出器、反射電子検出器
最大試料サイズ φ200 mm 高さ 80 mm
低真空モード 10~300 Paで観察可能
※公益財団法人JKA2021年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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材料組織評価装置
材料組織評価装置

本装置は、元素分析用検出器と結晶方位解析用検出器から構成される装置で、それらを同期させた高度な材料組織解析に加え、それぞれを独立して使用した材料評価も可能です。元素分析用検出器では、定性分析、ライン分析、マッピング等を行うことができ、一方、結晶方位解析用検出器では、従来よりも著しく高速で方位データを収集することができます。また、本装置は、試料を加熱しながら元素分析や結晶方位解析することも可能です。

型式 EDS/EBSDインテグレーションシステムPegasus(EDAX社製)
元素分析用検出器 Octane Elect Super
ウィンドウ シリコンナイトライド
検出範囲 Be(4)~Am(95)
検出素子面積 70 mm2
 エネルギー分解能 MnKα半値幅で127 eV
結晶方位解析用検出器 Velocity Pro
撮像素子 CMOSイメージセンサ
最大画素数 640×480 ピクセル
測定スピード(最速値) 2000点/秒
測定スピード(実用値) 1000点/秒
反射電子像 PRIAS反射電子像
※公益財団法人JKA2021年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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マグネトロンスパッタ装置
マグネトロンスパッタ装置
マグネトロンスパッタ装置は、真空槽内で、プラズマとターゲットと呼ばれる固体材料を用いて、基板上に薄膜を作製する装置です。作製した薄膜は、IoTに用いられる小型センサなど、各種電子デバイスに欠かせないものです。
また、本装置は、ロードロック機能、自動運転製膜機能、製膜自動ログ機能等を具備しており、製膜作業の効率や実験条件の再現性が高いため、大変利便性の高い装置となっております。
型式 MS-3C100L(株式会社大阪真空機器製作所製)
性能 ターゲットサイズ Φ100 mm × t 5 mm
基板サイズ 最大 Φ200 mm ~ t 20 mm
基板枚数 4枚(ロードロック室内への最大格納枚数)
ターゲット - 基板間距離 100 mm ~ 150 mm
基板ホルダ温度 0 ℃ ~ 200 ℃
基板回転数 2 rpm ~ 20 rpm

スパッタ電源

DC 3kW max、RF 1kW max

ターゲット数

3
公益財団法人JKA2019年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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分光エリプソメーター
分光エリプソメーター
分光エリプソメーターは、材料の屈折率や消衰係数、薄膜の膜厚を非破壊で精度良く測定することができる装置です。また、近年解析技術の向上により、屈折率や膜厚だけではなく、材料物性に関する様々な情報を得ることができます。
太陽電池、光学多層膜、光学レンズ材料、有機エレクトロニクス、電子デバイス等の分野で新規材料の開発や品質の確認、光学設計等に対して分光エリプソメーターは強力なツールとなります。当該装置を用いることにより、企業が求めるものづくりを支援することが可能となります。
型式 M-2000UI(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社)
性能 光源 重水素ランプ,ハロゲンランプ
波長範囲 245~1690 nm
ゴニオメーター 45~90度
試料ステージ 最大8インチ基板まで対応
測定方式 回転補償子型
測定時間 1測定あたり数十秒程度

アライメント

自動アライメント

マッピング

自動マッピング
公益財団法人JKA平成29年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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ナノインデンター
ナノインデンター
ナノスケールレベルでの高度な表面計測、評価、解析が可能であり、材料表面の機械的物性を総合的に評価できる最新の高機能型装置です。
金型、機械、家電等における表面機能性製品の研究開発や品質管理にとって、最新の表面物性評価が可能な体制を整備でき、技術競争力を高めることができます。
また、本装置に現保有技術を組み合わせたメニューを提供することで、ものづくり企業が求める表面機能性に関する技術開発を積極的に支援することが可能となります。
型式 TI950 TriboIndenter (Hysitron, Inc.)
基本性能 最大荷重 10 mN
荷重フロアノイズ 30 nN
最大変位 5 μm
変位フロアノイズ 0.2 nm
ステージ分解能 0.5 μm
最大試料寸法 300 mm × 300 mm × 30 mm程度

走査プローブ顕微鏡像
最大走査範囲

60  μm
試験・測定 ①ナノインデンテーション試験(硬さ・ヤング率)
②動的ナノインデンテーション試験(粘弾性)
③ナノスクラッチ試験
④ナノ摩擦摩耗試験
⑤走査プローブ顕微鏡による表面形状測定
⑥試料加熱機構による高温試験
公益財団法人JKA平成28年度公設試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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高速シリコンディープエッチング装置
高速シリコンディープエッチング装置
高速シリコンディープエッチング装置は、高速にシリコン基盤を垂直に深く加工することにより、高い自由度を持つ形状を有するシリコン立体構造体の作製が可能になる装置です。
情報、自動車、精密機器等多くの分野で活用される小型のセンサーや電子デバイスの新規開発において、この装置を含むMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)加工プロセスおよび研究所の持つ多くのノウハウにより中小企業の開発支援を行います。
型式 MUC21-SRE/O(住友精密工業㈱)
性能 エッチング速度 5μm/分以上
エッチング深さ 300μm
選択比(シリコン:フォトレジスト) 100以上:1
選択比(シリコン:シリコン酸化膜) 200以上:1
エッチング側壁角度 90°±1°以下
低スカロップ加工,低ノッチ加工が可能
アスペクト比 30以上
基板サイズ 最大サイズ:8インチ(200mm)径
最小サイズ:小片から加工可能
公益財団法人JKA平成27年度公設工業試験研究所等における機械設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 総合評価4 全体として比較的高いレベルの事業であった。

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大型貨物用振動試験機
大型貨物用振動試験機
大型重量物を加振でき、サイン波、ランダム波、実波を発生できます。
包装貨物や製品を対象にした振動耐久性評価や、地震対策品の耐震性能評価だけでなく、振動に絡むトラブルの原因究明、対策検討、効果検証などにも活用できます。
東日本大震災以降ニーズが高まっている震度7クラスでの試験が可能です。さらに3軸同時加振が行えるため、実環境で計測されたデータを用いて実際の車両振動や実際の地震と同じ振動を与える再現試験も可能になっています。
型式 G-6230L-3LT-115型(株式会社振研)
加振方向   x方向、y方向 z方向
加振力 kN 20.6
最大加速度 m/s2 13.7
最大速度 m/s 0.7
最大変位 mmp-p 280 140
許容偏心モーメント kN・m 1.03
振動数範囲 Hz 1-200
最大搭載質量 kg 350
可動部質量 kg 1100
テーブル寸法 mm 1500×1500
公益財団法人JKA平成26年度公設工業試験研究所等における機械等設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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液体クロマトグラフ質量分析システム
液体クロマトグラフ質量分析システム 
液体クロマトグラフ質量分析システムは、液体クロマトグラフと質量分析装置およびナノイオン源からなる不揮発性有機化合物の総合的解析を可能とする装置群です。
①未知試料の定性・同定解析、②極微量成分の定量分析など物質の分離、構造解析・同定及び定量分析に加え、またスクリーニング機能による③異物等の表面分析など、異常部位微少領域のピンポイント分析が可能です。
本装置は、製品中や環境中の有害物質管理にとどまらず、製品トラブルの解析(変色、劣化、異物など)、高度なものづくりへの支援などに利用ができます。
型式
LC部U3000、MS部Q-Exactive、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社
対象材料
主としてメタノールやアセトニトリルに可溶な有機系化合物
(もしくは上記の溶媒と水の混合溶媒に可溶な物質)
試料量
1mL
測定質量範囲(m/z)
50~6000
分解能および 質量精度
 
最高14,0000
3ppm未満
その他
ナノイオン源(LESA System) advion社製 付属(スクリーニング分析用)
公益財団法人JKA平成25年度公設工業試験研究所等における機械等設備拡充事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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電子線三次元表面形態解析装置
電子線三次元表面形態解析装置
電子線三次元表面形態解析装置は、①材料・製品の表面観察、②表面形状計測、③表面元素分析の3つの機能に対応できる表面の総合的形態解析ができる唯一の装置です。
高精度半導体、超微細配線、超平滑平面体などの微細構造体や高機能性表面の開発など先端技術分野での利用や、めっき製品、電子部品、金型、工具、触媒、高分子フィルム、紙などの基盤技術に係わる製品トラブルの解析(回路異常、腐食、異物など)などに利用できます。
型式 ERA-8900FE(電子線三次元粗さ解析装置)(株)エリオニクス製
対象材料 金属やセラミックなどの固体(但し非導電性の試料はカーボンなどの蒸着が必要)
試料の大きさ 最大径 φ125mm×H10mm、最大厚 φ50mm×H30mm
電子銃 ZrO/W 熱電界放射型
分解能 1.2nm(30kV)、5nm(1kV)
その他 エネルギー分散型X線分析装置(EDS)付属
電子線後方散乱解析装置(EBSD)付属
公益財団法人JKA平成24年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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複合サイクル試験機
複合サイクル試験機
塩水噴霧環境、湿潤環境あるいは乾燥環境をサイクル的に繰り返し曝露する事により、耐食性を評価する装置です。
主にめっき、アルマイトあるいは塗装等の表面処理を施した金属製品の耐食性の評価を行うものであり、機械・構造部品の安全性・信頼性の維持・改善や腐食トラブルの原因究明あるいは対策のために用いられます。
塩水噴霧 噴霧方法:噴霧等方式あるいは、ミストノズル方式
 試験液:5%塩化ナトリウム
 噴霧量制御:試料位置において1.5±0.5ml/80c㎡/h(35℃において)
 制御温度:35℃~50℃±1℃
乾燥 制御温度:室温プラス10℃~70℃±1℃
 制御湿度:25±5%RH(60℃において)
湿潤 制御温度:室温プラス10℃~50℃±1℃
 制御湿度:60~95±5%RH(50℃において)
外気導入 可能
共試試料数 JIS標準試料片(70×150mm)で45枚
公益財団法人JKA平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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高照度キセノン耐候性試験装置
高照度キセノン耐候性試験装置
太陽光と似た分光分布を持つキセノンランプを光源に用いているため屋外暴露との相関が高く、耐候性試験の主流となっている耐候性試験装置です。2つの試験槽を用いることにより促進性の高い高照度試験を異なる条件で同時に行うことが出来るため、試験に要する時間を大幅に短縮することが出来ます。
プラスチック製品・塗装・繊維製品・機械・構造部品・電子部品など多くの分野で、製品の安全性および信頼性の維持や改善、トラブルの原因究明のために用いられます。
型式 高照度キセノン耐候性試験装置SX2D-75(スガ試験機㈱)
対象材料 プラスチック製品・塗装・繊維製品・機械・構造部品・電子部品など
光源 キセノンランプ
放射照度 60~180W/m²(300nm~400nm)
ブラックパネル温度 50~95℃まで制御可能(照射時)
試料枚数 最大54枚(試料寸法150mm×70mm)
試験方法 連続照射およびサイクル試験(照射・噴霧(降雨)・暗黒・結露)
公益財団法人JKA平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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メタルハライドランプ式耐候性試験装置
メタルハライドランプ式耐候性試験装置
強い紫外線を照射出来るメタルハライドランプを用いた促進性に優れた耐候性試験装置です。 屋外暴露1年分の紫外線量を最短48時間で照射可能です。
プラスチック製品・塗装・繊維製品・機械・構造部品・電子部品など多くの分野で、製品の耐久性及び信頼性の維持や改善、トラブルの原因究明のために用いられます。
型式 アイスーパーUVテスター SUV-W161(岩崎電気㈱)
対象材料 プラスチック製品・塗装・繊維製品・機械・構造部品・電子部品など
光源 メタルハライドランプ
照射光の波長 295nm~450nm
放射照度 最大150mW/cm2(300nm~400nm)
有効照射エリア 422mm×190mm(均斉度90%
試験方法 連続照射およびサイクル試験(照射・結露・休止)
公益財団法人JKA平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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分光測色計
分光測色計
製品の色を測定し、その結果をもとに規格化された基準に基づき色を数値化する装置です。プラスチック製品・塗装・繊維製品・機械・構造部品・電子部品など多くの分野で、製品トラブルの原因究明、安全性および信頼性の維持や改善、品質管理のために用いられます。
またファイバー仕様のため、微小部や複雑な形状をした試料の測色も可能です。
型式 分光測色計SE6000-OF型(日本電色工業㈱
対象材料 塗装・プラスチック・繊維など着色・透明な製品
固体、液体、ペレット、フィルムなど多彩な形状の試料
測定波長 380nm~780nm(出力波長間隔10nm)
照射光の波長 295nm~450nm
測定面積 反射:3mmφ、4mmφ、φ5mm、φ6mmφ、10mmφ、30mmφ
透過:30mmφ
ファイバー:3mmφ
測定光源 C、D65、A、F6、F8、F10
表示項目 L*a*b*、⊿L*a*b*、⊿E*、Lab、⊿Lab、⊿E、XYZ、Yxy、YI、メタメリズム、分光反射率、分光カーブなど
公益財団法人JKA平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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雷サージ試験システム
雷サージ試験システム
誘導雷を模擬した高電圧・大電流のインパルスを機器の電源線や信号線に注入する装置です。
電気・電子機器、メカトロニクス機器を安全で信頼性の高いものにする上で、雷サージ試験は欠かすことができないものとなっています。
コンビネーションウェーブ雷サージ試験器
型式 株式会社ノイズ研究所製 LSS-F02C3
準拠規格 IEC61000-4-5(Edition 2.0 2005年版)
出力波形 1.2/50μs - 8/20μs コンビネーション、10/700μs - 5/320μs コンビネーション
出力最大電圧/電流 ±15 kV/±7.5 kA
結合部種類 (1) DC3線・AC単相3線・AC三相5線(アース線を含む)
(2) 2線または4線のテレコムライン
(3) 5線までの相互接続線(アース線を含む)
結合部最大容量 DCは125V/50A、ACは500V/50A、テレコムラインはDC50V/100mA、相互接続線はDC50V/1A
その他 ・試験パラメータを段階的に可変できるスイープ機能、・出力電圧・電流を試験中に簡易的に確認可能
電圧・電流雷サージ試験器
型式 株式会社ノイズ研究所製 LSS-720B
準拠規格 JEC-210、JEC-212
出力波形 1.2/50μs 電圧サージ、8/20μs 電流サージ
出力最大電圧/電流 ±20 kV/±4 kA
結合部種類 AC単相3線(アース線を含む)
結合部最大容量 240V/20A
その他 出力電圧・電流を試験中に簡易的に確認可能
公益財団法人JKA平成23年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。
JKA補助事業の自己評価: 評価スコア4 事前計画の目標値を達成することができた。

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X線応力測定装置
X線応力測定装置
X線を用いて機械・構造部品の残留応力や、残留オーステナイトを非破壊で測定する装置です。
機械・構造部品の安全性・信頼性の維持・改善や破損トラブルの原因究明のために用いられます。
型式 微小部X線応力測定装置AutoMATE(リガク)
試料サイズ 最大φ320mm×厚さ215mm、重量20kgまで
分析対象試料 鉄鋼、非鉄金属、セラミックスその他の多結晶材料
X線管球 V、Cr、Fe、Co、Cu
測定領域の大きさ φ0.15mm~φ4mmの範囲内で段階的に調整可能
検出器 位置敏感型比例計数管(PSPC)
その他 ティーチングによる自動マッピング機能
CCD付きズーム顕微鏡
公益財団法人JKA平成22年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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光電測光式発光分析装置(OES)
光電測光式発光分析装置
スパーク放電発光分光分析は、試料と対電極の間で放電を行い、放射される光を分光器によりスペクトル線に分け、その強度を測定することにより、元素の定量を行います。鉄鋼や非鉄金属を固体で分析します。
分析装置は鉄鋼用、非鉄用の2台(外観は同じです)あります。
試料サイズ 最低14mmφ以上の面積の穴の無い平面、0.5mm以上の厚みが必要
分析対象金属 ・鉄鋼(低合金鋼、ステンレス鋼、工具鋼、金型鋼、鋳鉄)中の含有成分の分析
・非鉄金属(アルミニウム合金、銅合金 ・亜鉛合金)中の含有成分の分析
分析可能成分、濃度 当研究所が保有する標準試料、検量線の範囲内のみとなります。
公益財団法人JKA平成21年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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顕微ラマン分光光度計
顕微ラマン分光光度計
多波長励起光源が備わっていますので、機械・金属材料から有機高分子材料に至るまで、化学構造が測定できます。
光学系 測定波数範囲
(532・励起時、ラマンシフト値)
30~4000cm-1
標準搭載レーザ ・グリーンレーザ(532・)
・ブルーレーザ (488・)
・レッドレーザ (633・)
測定部 対物レンズ ×5、×20、×100
ステージ 自動XYZ測定ステージ
オートフォーカス付
公益財団法人JKA平成20年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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元素分析付高分解能電界放出型走査電子顕微鏡
元素分析付高分解能電界放出型走査電子顕微鏡 
・各種材料の形態観察・材質分析や表面異物の元素分析を行うことができます。
・電子顕微鏡像観察とX線分析の測定が簡便かつ短時間で両方測定可能です。
・サンプル表面のダメージを抑えつつ高分解能での観察・分析を行うことができます。
形式 ・高分解能電界放出型走査電子顕微鏡
(日立ハイテクノロジーズ、S-4800、冷陰極電界放出型、セミインレンズタイプ)
・エネルギー分散型X線分析装置
(エダックス・ジャパン、Genesis XM2)
試料サイズ 最大(φ150mm、厚み10mm)
元素分析 検出範囲 B~U(点、線、面分析可能)
公益財団法人JKA平成19年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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ACサーボ順送プレスシステム
ACサーボ順送プレスシステム
本システムは、採用する加工法に最適化したプレスモーションを実現することのできる高精度成形、難加工材成形や省エネ成形に対応できる加工機器です。
本体構造 鋼板製Cフレーム構造
加圧能力 2,000kN
ストローク長さ 250mm
ダイハイト 450mm
スライド調節量 120mm
ボルスタ寸法 1,450mm×奥行840mm
スライド下面寸法 850mm×奥行650mm
下死点繰返し精度 ±20μm
付属装置
荷重計 スライド位置とともにPCに取込み可能
サーボモータ式 ダイクッション 加圧能力200kN、ストローク長さ100mm
レベラフィーダ 通板可能板厚0.33.2mm
適用板幅30300mm
公益財団法人JKA平成18年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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ICP-質量分析システム
ICP-質量分析システム
本システムは、高感度かつ適用範囲の広い分析機器であるICP-質量分析装置を用い、様々な元素の高感度定量を行うものです。
このシステムにはマイクロ波分解装置も併設されているため、溶液だけでなく金属、プラスチックなど多くの素材中の微量元素定量も行えます。
ICP-質量分析装置 X series II コリジョンセル方式高周波出力:1.6 kW(最大)測定範囲:2-255 amu
超純水製造装置 EQE-5L A4グレード(JIS K0557)
マイクロ波分解装置 ETHOS TC 最大出力: 1.0 kW
クリーンベンチ VS-1605LS 清浄度: クラス5 (ISO14644-1)
※公益財団法人JKA平成17年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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包装貨物用振動試験機
包装貨物用振動試験機
本装置の振動波形は、正弦波、ランダム波、ショック波および実測形を制御できるので、振動試験以外にもバンプ試験(繰返し衝撃試験)や加速度値の低い衝撃試験も対応可能で、包装貨物だけでなく、機械金属部品および電気電子部品にもご利用できます。
正弦波加振力 30 kN
ランダム波加振力 21 kN rms
最大加速度 1,000 m/s2(無負荷時)
最大変位 190 mmp-p
振動数範囲 1 Hz ~ 2,000 Hz
最大速度 2.0 m/s
許容偏心モーメント 1.5 kN・m
最大搭載質量 250 kg(1,000mm×1,000mmテーブル使用時) 
加振方向 垂直方向または水平方向 
※公益財団法人JKA平成16年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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マイクロ波デバイス測定システム
マイクロ波デバイス測定システム 
① ベクトル・ネットワーク・アナライザ 
基本動作周波数 10 MHz~70 GHz
ダイナミックレンジ 118 dB(2~20GHz)
最小周波数分解能 1 Hz
② 同軸・矩形導波管 
基本動作周波数 100 MHz ~ 40 GHZ
許容偏心モーメント 1.5 kN・m
主な利用分野  高損失材料の伝送
反射特性複素誘電率・透磁率測定
③ 空洞共振器
基本動作周波数 1,2,2.45,3,5,5.8,10,20 GHz
主な利用分野 低損失材料の複素誘電率測定
④ ホーン・アンテナ
基本動作周波数 26.5 GHz ~ 60 GHz
※公益財団法人JKA平成15年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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三次元形状測定装置(三次元座標測定機)
三次元形状測定装置
非接触・接触の両方式の測定により三次元形状を評価します。
測定方式 CCDカメラ、タッチプローブ、レーザプローブの3タイプ
測定範囲(X,Y,Z) 476 mm × 650 mm × 250 mm
測長ユニット 反射型リニヤエンコーダ(分解能:20 nm)
測定精度 U1=0.8+2L/1000(X,Y軸)、
U1=3.0+2L/1000(Z軸, CCDカメラ)
U1=2.5+2L/1000(Z軸, レーザプローブ)、
U2=1.4+3L/1000(X-Y平面)
※公益財団法人JKA平成14年度公設工業試験研究所の設備拡充補助事業により導入。

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