| 発表題目 |
配位子の着脱を利用したチオシアン酸銅の製膜方法の開発とペロブスカイト太陽電池の正孔輸送層への応用 |
| 発表者名 |
田中 剛 |
| 発表会名 |
第11回元素ブロック研究会 |
| 発表日 |
2025/7/30
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概要
ペロブスカイト太陽電池の耐久性向上のため、正孔輸送層にチオシアン酸銅(CuSCN)の利用が検討されている。本研究では、ペロブスカイト結晶(光吸収層、PVK)の劣化を避けることができる、疎水性のクロロベンゼン溶液を用いたCuSCNの製膜方法の開発に着手した。その結果、CuSCNに配位子としてトリメチルホスファイトおよびtert-ブチルピリジンを用い溶液を調製、続いて、この溶液をPVK上に塗布後、加熱により配位子を脱離させ、CuSCNを膜状態で再形成させる方法を見出した。この方法で得られるCuSCN膜をPSCの正孔輸送層に応用することで、光電変換効率13.6%を達成した。